ニュースでは毎日のように、中国のことが取り上げられる時代となりました。一般のメディアにおいても、知的財産に関係する中国のニュースを頻繁に目にします。昨日の日本経済新聞（２０１０年１２月２０日、法務欄）でも、「中国での知財訴訟 潮目が変わる」と題する記事が掲載されており、外国企業が提起された訴訟、提起した訴訟、外国企業のリスクなどについて分析がなされていました。
インターネットを始めとした情報技術の発達とも相俟って、中国はとにかく変化のスピードが早い国であり、その分リスクがあり、リスクの分だけチャンスも多い国です。
そして、ビジネスのリスクを軽減し、チャンスを最大限に活かすべく、中国における知的財産を含めた法務の対策、人材育成は、さらなるレベルアップを図るべき分野となっています。
今年は筆者も、近畿経済産業局の「平成２２年度中国ビジネス知財戦略基盤定着支援事業」に参加させて頂くことができ、経験豊富な弁護士・弁理士の先生方から、中国の特許・商標・意匠・実用新案・一般法・ライセンスのノウハウを始めとして、具体的なリスク軽減手法、より良い実務の手法など、（泥臭い部分も含めて）いろいろなことを学ばせて頂きました。また、企業への訪問支援を行うことができました。関係者の皆様、事業ではお世話になり、ありがとうございました。厚く御礼申し上げます。
支援事業で学んだことを、日々の仕事に活かし、日本のため、中国のため、そして世界のために貢献できるようになりたいなと思っております。また、今後とも中国実務のブラッシュアップを図るべく、日々研鑽を積みたく思っております。最後になりましたが、ご訪問させて頂きました企業の皆様、今後のさらなるビジネスのご発展（特に中国でのビジネスのご発展）をお祈り致します。
http://www.kansai.meti.go.jp/2kokuji/chizai2010/senmonkakoubo100714.html
http://www.ip-gate2010.jp/
椿特許事務所
弁理士ＴＹ
